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內容簡介： 晶体结构精修主要基于Rietveld方法，该方法通过在给定的晶体结构模型上，利用*小二乘法对晶体结构信息和峰形参数进行拟合，使计算图谱与实际衍射图谱尽可能一致。这种方法能够充分利用全谱衍射数据，有效解析出晶胞参数、原子位置等关键信息，对于材料科学、物理、化学等领域的研究具有重要意义。 目錄： 目录前言第1章 引言 11.1 晶体结构精修的重要性 11.2 Topas技术在晶体结构精修中的应用 2第2章 晶体结构精修原理 42.1 Rietveld 法概述 42.2 Rietveld法数学模型 72.2.1 Rietveld法数学模型介绍 72.2.2 Topas技术全谱图拟合精修的策略 132.2.3 精修结果正确性判据及结构精修常见问题 14第3章 精修技术 193.1 Topas技术功能及特点 193.2 用户界面 22第4章 精修分析 434.1 粉末衍射结构解析中的指标化 434.2 磷酸铁锂的精修 454.3 菱铁矿多相的精修 81第5章 精修有关的其他问题 1155.1 计算两相比例方法 1155.2 晶胞参数拟合 1245.3 晶粒尺寸 1325.4 微观应力 142第6章 结论与展望 1556.1 晶体结构精修的意义与价值 1556.2 Topas软件在晶体结构精修中的优势与不足 1566.3 未来发展方向与挑战 157参考文献 158

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