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| 內容簡介： |
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本书的王要内客包括四部分：部分为引论与建模(包括引论光学和非光学相互结合的方法表征多孔氧化锆样品．宽光谱区薄膜表征的通用色散模型从头计算预测光学特性)；第二部分为分光光度法和椭圆偏振光谱法(包括薄膜的反射光谱成像法光学表征，成像分光光度法的数据处理方法．单层膜与多层膜的在线和离线分光光度法)；第三部分为缺陷和渡纹的薄膜表征(包括缺陷薄膜的光学表征，光学薄膜的扫描探针显微技术表征．共振波导光栅结构．深紫外线册偏振片的偏振控制)；第四部分为散射和吸收(包括光学薄膜的粗糙度与散射，光学薄膜中的吸收和荧光测量，光学薄膜表征的环形腔衰荡技术)。全书既讨论了表征技术的优点，也没有规避表征技术的缺点。本书对于固体薄膜技术领域内的应用基础研究和工程技术研究具有重要的参考价值，适合从事薄膜技术研究和应用领域的工程技术人员、研究生与高年级本科生阅读及使用。参与固体薄膜表征任务的科学家或工程师都能从本书中获益。
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| 目錄：
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部分引论与建模
第1章引论
1.1个考虑
1.2薄膜表征和质量控制
1.3本书的结构
第2章多孔氧化锆样品的表征作为光学和非光学表征方法相互作用的例子
2.1光学与非光学的薄膜表征
2.2基于强度测量的光学表征
2.3表征示例：光学和非光学方法之间的相互作用
2.3.1光学常数
2.3.2光学常数与孔隙率的关系：混舍模型
2.3.3多孔薄腱的应用
2.4结论
参考文献
第3章宽光谱区薄膜表征的通用色散模型
3.1简介
3.2.理论背景
3.2.1经典模型
3.2.2基于量子力学的模型
3.2.3展宽
3.3元激发的色散模型
3.3.1声子吸收
3.3.2价电子激发
3.3.3局域态的电子跃迁
3.3.4自由栽流子的贡献
3.3.5核芯电子激发
3.4结论
参考文献
第4章从头计算预测光学特性
4.1引言
4.2能带结构计算
4.2.1量子力学波函数
4.2.2密度泛函理论
4.2.3交换关联泛函
4.2.4超越DFT
4.3光学特性
4.3.1Bethe—Salpeter方程
4.3.2一般工作流程
4.4复杂系统建模
4.4.1特殊的准随机结构
4.4.2模拟退火
4.4.3例：Ti～Si.0：的折射率
4.5关于解释结果的几点说明
4.5.1预测与实验
4.5.2电子与光学带隙
4.6结论
参考文献
第二部分..分光光度法和椭圆偏振光谱法
第5章薄膜的反射光谱成像法光学表征
5.1引言
5.2反射光谱成像法发展和开发的动机
5.3正入射下非显微成像光谱反射测量技术简介
5.4.ISR技术实验装置
5.5成像反射光谱仪
5.5.1..宽光谱区成像光谱反射仪
5.5.2空间分辨率增强的成像反射光谱仪
5.6数据采集
5.7成像反射光谱仪的主要特点
5.8成像反射光谱仪的方法
5.8.1单像素ISR法作为独立方法
……
第6章成像分光光度法的数据处理方法
第7章单层膜与多层膜的在线和离线分光光度法表征1:基础
第8章单层和多层膜的在线和离线分光光度法表征2:实验技术
第9章分层系统的椭圆偏振测量
第三部分缺陷和波纹的薄膜表征
第10章缺陷薄膜的光学表征
第11章光学薄膜的扫描探针显微技术表征
第12章共振波导光栅结构
第13章深紫外线栅偏振片的偏振控制
第四部分散射和吸收
第14章光学薄膜的粗糙度与散射
第15章光学薄膜中的吸收和荧光测量
第16章光学薄膜表征的环形腔衰荡技术
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