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| 編輯推薦： |
本书从基础半导体理论开始，循序渐进地介绍基本集成电路单元的版图设计。在较深的程度上为读者提供有价值的设计方程以及设计IC版图的方法与技术，这些知识将使读者终生受益。
本书特色
（1）以风趣幽默、图文并茂，循序渐进的形式阐述知识，插入轶事和佐证加以调侃，可读性强。
（2）在介绍版图设计的同时说明为什么要这样设计，使读者知其然，并知其所以然，启发性强。
（3）重点介绍版图设计的基础知识，对于新入行的从业者，这是一个良好的开端；对于有经验的设计者，则可作为对设计经验的回味和思考。
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| 內容簡介： |
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集成电路版图是电路系统与集成电路工艺之间的中间环节，是一个必不可少的重要环节。本书从基础半导体理论的介绍开始，循序渐进地介绍基本集成电路单元的版图设计。本书的突出特点是：在介绍版图设计的同时说明了为什么要这样设计，使读者知其然，并知其所以然。从本书的内容组织也可以看到，版图设计并不是一个孤立的设计环节，它与一些列的技术相关联。本书内容的重点是版图设计的基础知识，对于新入行的从业者，这是一个良好的开端；对于有经验的设计者，本书则可作为对设计经验的回味和思考。
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| 關於作者： |
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李伟华，东南大学教授。在微电子技术领域从事科研与教学工作多年，先后开设与讲授本科、硕士研究生与博士研究生课程多门。出版教材《VLSI设计基础》与《微电子器件设计》，翻译英文教材《集成电路版图基础》、参加翻译专著《微系统设计》，编写本科课程讲义《集成电路CAD技术》、《专用集成电路及其结构设计》等4本，实验指导讲义1本。主持教学改革项目3项，参加教改项目多项，获得多项校教学奖励。
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| 目錄：
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目录
第1章电路基础理论1
1.1内容提要1
1.2引言1
1.3基本电路回顾2
1.3.1同性相斥，异性相吸2
1.3.2基本单位3
1.3.3串联公式4
1.3.4并联公式4
1.3.5欧姆定律4
1.3.6基尔霍夫定律5
1.3.7电路单元符号7
1.4导体、绝缘体和半导体8
1.5半导体材料9
1.5.1N型材料11
1.5.2P型材料12
1.6PN结13
1.6.1势垒13
1.6.2通过势垒的电流14
1.6.3二极管16
1.6.4二极管应用17
1.7半导体开关18
1.7.1一个灯开关的例子小节同原书。18
1.8场效应19
1.8.1场效应晶体管*21
1.9开关隔离22
1.10增强型器件和耗尽型器件24
1.11互补型开关26
1.12N阱和衬底接触27
1.13逻辑电路27
1.13.1用电压表示逻辑状态28
1.13.2CMOS逻辑电路28
1.13.3与非门31
1.13.4或非门31
结束语33
本章学过的内容34
应用练习34
第2章硅加工工艺39
2.1内容提要39
2.2引言39
2.3集成电路版图40
2.3.1基本矩形41
2.4硅晶圆制造42
2.5掺杂45
2.5.1离子注入46
2.5.2扩散46
2.6生长材料层47
2.6.1外延47
2.6.2化学气相沉积48
2.6.3氧化层生长50
2.6.4溅射50
2.6.5蒸发50
2.7去除材料层51
2.8光刻51
2.9芯片制造53
2.9.1下凹图形的加工53
2.9.2凸起图形的加工55
2.9.3平坦化56
2.9.4作为掩模的二氧化硅57
2.10自对准硅栅58
结束语61
本章学过的内容62
第3章CMOS版图93
3.1内容提要93
3.2引言93
3.3器件尺寸设计94
3.3.1SPICE94
3.3.2大尺寸器件的设计97
3.4源漏区共用102
3.5器件连接技术105
3.6紧凑型版图108
3.7棒状图109
3.8阱连接和衬底连接115
3.8.1阱连接布局117
3.9天线效应119
3.10多晶硅引线122
3.11图形关系123
结束语125
本章学过的内容125
应用练习125
第4章电阻129
4.1内容提要129
4.2引言129
4.3电阻概述130
4.4电阻的测量131
4.4.1宽度和长度131
4.4.2方块的概念132
4.4.3每方欧姆135
4.5多晶硅电阻公式139
4.5.1基本电阻器版图140
4.5.2接触电阻142
4.5.3改变体材料151
4.6实际电阻分析155
4.6.1接触区误差155
4.6.2体区误差155
4.6.3头区误差156
4.6.4扩展电阻158
4.6.5总电阻方程161
4.7实际的最小电阻尺寸162
4.8特殊要求的电阻163
4.8.1大电阻低精度163
4.8.2小电阻高精度166
4.9设计的重要依据电流密度166
4.10版图误差分析171
4.10.1电阻器误差的来源171
4.10.2误差要求171
4.11基本材料的复用172
4.12扩散电阻和多晶硅电阻的比较175
4.12.1双层多晶硅176
4.12.2BipolarBiCMOS176
结束语176
本章学过的内容177
应用练习177
第5章电容183
5.1内容提要183
5.2引言183
5.3电容概述184
5.3.1电容器的特性184
5.4电容值计算187
5.4.1表面电容188
5.4.2边缘电容189
5.5N阱电容器191
5.5.1寄生电容193
5.6金属电容器194
5.6.1叠层金属电容器195
5.6.2氮化物介质电容器195
结束语196
本章学过的内容196
第6章双极型晶体管197
6.1内容提要197
6.2引言197
6.3工作原理198
6.3.1基本结构198
6.3.2NPN晶体管工作原理200
6.4纵向工艺203
6.4.1FET和NPN晶体管的开关特性比较203
6.4.2层的结构204
6.5NPN管的寄生效应206
6.6PNP晶体管207
6.6.1横向PNP管207
6.7双极型晶体管版图与CMOS版图的区别209
6.7.1设计规则的数量209
6.7.2黑匣子式的布局211
结束语211
本章学过的内容212
第7章二极管213
7.1内容提要213
7.2引言213
7.3二极管的种类213
7.3.1基本二极管214
7.3.2由双极型晶体管构造的二极管214
7.3.3变容二极管217
7.4ESD保护218
7.5特殊版图结构222
7.5.1圆形版图222
7.5.2梳状结构二极管版图223
结束语223
本章学过的内容224
第8章电感225
8.1内容提要225
8.2引言225
8.3基本电感226
8.4传输线228
8.4.1直线特性228
8.4.2拐角特征化229
8.5螺旋电感231
8.6电感品质因子232
8.7叠层电感233
8.7.1射频扼流圈234
8.8邻近效应236
结束语237
本章学过的内容238
术语239
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| 內容試閱：
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作者序集成电路版图基础实用指南
作者序
集成电路（IC）版图设计是一个非常新的领域，虽然掩模设计已经有40多年的历史，但直到最近才成为一种职业。希望从事这个职业的人们，包括大学毕业生和一些希望转行的人，他们需要了解一些非常复杂的原理。同样地，一些富有经验的版图工程师也发现当代IC工艺的复杂性要求他们进一步了解这些基础知识。
包含版图工程师需要了解的所有信息的资料现在找起来已经十分困难，在关于其他方面工作的一些讨论中略微地介绍了一些版图工程师应该了解的基础知识，但涵盖相关方方面面的材料尚未发现。
本书中探讨了相关的内容。我们希望为新的版图设计师们提供他们应了解的所有理论和设计基础知识，使他们成为设计能手，为他们的职业生涯提供参考。我们也希望给那些富有经验的版图设计从业者一个知识的扩展，增加对当今器件与技术的了解。
本书从基本半导体理论开始介绍，进而阐述了在现代半导体技术中基本器件的发展。在较深的程度上为读者提供了有价值的设计方程以及设计IC版图的方法与技术，这些知识将使从事该职业的人们终生受益。
本书的内容以幽默、图示和循序渐进的方式表述这可能是第一本可以躺在床上看的技术书。，在书中关键之处插入了轶事和佐证加以调侃，但丝毫不会影响本书作为高技术资料的水平。
本书内容完整，可读性强，欢迎大家阅读此书：《集成电路版图基础实用指南》。
Christopher Saint
Judy Saint译者序集成电路版图基础实用指南
译者序
集成电路版图是电路系统与集成电路工艺之间的中间环节，是一个必不可少的重要环节。通过集成电路版图设计，可以将立体的电路系统变为一个二维的平面图形，再经过工艺加工还原为基于硅材料的立体结构。因此，版图设计是一个上承电路系统、下接集成电路芯片制造的中间桥梁，其重要性可见一斑。
随着微电子技术的突飞猛进，新技术、新工艺、新材料不断涌现，设计方法、设计手段、设计理念不断更新，版图设计已从单纯的图形设计发展为需要综合考虑各方面因素的、复杂的设计问题。一个优秀的版图设计工程师不仅需要了解版图设计的技术、技巧，还应该对相关的电路系统问题、工艺问题以及一些重要的物理效应有深刻的理解。
但是，集成电路版图设计也确实是令设计者们感到困惑的一个环节，我们常常感到版图设计似乎没有什么规矩，设计的经验性往往掩盖了设计的科学性。即使是有多年版图设计经验的人有时也说不清为什么要这样或那样设计。在多年的科研与教学实践中，我们感到版图设计方面的问题是最令学生感到无所适从的问题之一。
长期以来，关于集成电路版图设计的知识大部分是作为集成电路原理或VLSI设计书籍中的一些章节，专门介绍版图设计知识的文献资料非常缺少。清华大学出版社引进并组织翻译有关版图设计的书籍，为集成电路版图设计者提供了非常好的学习与参考资料。虽然工作非常繁忙，我们仍接下了翻译任务，希望本书能够成为微电子行业的从业者学习与了解版图设计基础的实用资料。
本书从基本半导体理论的介绍开始，循序渐进地介绍了基本集成电路单元的版图设计。本书的一个突出特点是：在介绍版图设计的同时说明了为什么要这样设计，使读者知其然，并知其所以然。从本书的内容组织也可以看到，版图设计不是一个孤立的设计环节，它与一系列的技术相关联。本书内容的重点是版图设计的基础知识，对于新入行的从业者，这是一个良好的开端；对于有经验的设计者，本书则可作为对设计经验的回味和思考。
本书由东南大学李伟华和孙伟锋翻译。其中，孙伟锋负责第1、5、6、7、8章的翻译，李伟华负责第2、3、4章以及术语和其他内容的翻译，最后，由李伟华对全书的内容进行校对与整理。在本书的翻译过程中得到了东南大学MEMS教育部重点实验室和国家ASIC系统工程技术研究中心的老师和同事们的支持与帮助，在此一并表示感谢。
由于水平有限，译者在对原著的理解方面可能存在不足，希望读者给予批评指正。
译者于东南大学目录集成电路版图基础实用指南
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