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內容簡介： 曝光控制是一项复杂的系统工作，它涵盖了技术性正确曝光和创意性准确曝光两个层面的内容，涉及摄影者对拍摄主题的规划和对画面终效果的预先想象，以及对光圈、快门、感光度、量光、订光、滤光镜等技术手段的应用和后期制作方法。摄影的曝光控制不能简单地置于纯技术语境中去研究，而是应当在创作的层面进行综合分析和应用，这也正是作者于文灏写作《摄影曝光控制》的初衷和中心思想。《摄影曝光控制》可供摄影爱好者、从业者及摄影专业本科生阅读、参考。 關於作者： 于文灏，本科就读于北京电影学院摄影专业，获学士学位：研究生就读于英国肯特大学当代影像专业。获硕士学位；长期从事商业摄影、摄影史与影像艺术品收藏研究、摄影教育等相关工作，曾任职中央媒体摄影记者、广告摄影师、影像艺术品投资顾问，现任教于上海交通大学媒体与传播学院。教书育人之余，坚持创作。电影及平面摄影作品多次入选国内外电影节和摄影艺术大展并获奖。

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