登入帳戶  | 訂單查詢  | 購物車/收銀台(0) | 在線留言板  | 付款方式  | 聯絡我們  | 運費計算  | 幫助中心 |  加入書簽
會員登入   新用戶註冊
HOME新書上架暢銷書架好書推介特價區會員書架精選月讀2023年度TOP分類閱讀雜誌 香港/國際用戶
最新/最熱/最齊全的簡體書網 品種:超過100萬種書,正品正价,放心網購,悭钱省心 送貨:速遞 / 物流,時效:出貨後2-4日

2024年10月出版新書

2024年09月出版新書

2024年08月出版新書

2024年07月出版新書

2024年06月出版新書

2024年05月出版新書

2024年04月出版新書

2024年03月出版新書

2024年02月出版新書

2024年01月出版新書

2023年12月出版新書

2023年11月出版新書

2023年10月出版新書

2023年09月出版新書

『簡體書』集成电路版图设计

書城自編碼: 2000051
分類: 簡體書→大陸圖書→工業技術電子/通信
作者: 陆学斌
國際書號(ISBN): 9787301212356
出版社: 北京大学出版社
出版日期: 2012-11-01
版次: 1 印次: 1
頁數/字數: 254/387000
書度/開本: 16开 釘裝: 平装

售價:NT$ 342

我要買

share:

** 我創建的書架 **
未登入.



新書推薦:
古典的回響:溪客舊廬藏明清文人繪畫
《 古典的回響:溪客舊廬藏明清文人繪畫 》

售價:NT$ 1990.0
根源、制度和秩序:从老子到黄老学(王中江著作系列)
《 根源、制度和秩序:从老子到黄老学(王中江著作系列) 》

售價:NT$ 550.0
索恩丛书·北宋政治与保守主义:司马光的从政与思想(1019~1086)
《 索恩丛书·北宋政治与保守主义:司马光的从政与思想(1019~1086) 》

售價:NT$ 345.0
掌故家的心事
《 掌故家的心事 》

售價:NT$ 390.0
农为邦本——农业历史与传统中国
《 农为邦本——农业历史与传统中国 》

售價:NT$ 340.0
小麦文明:“黄金石油”争夺战
《 小麦文明:“黄金石油”争夺战 》

售價:NT$ 445.0
悬壶杂记全集:老中医多年临证经验总结(套装3册) 中医医案诊疗思路和处方药应用
《 悬壶杂记全集:老中医多年临证经验总结(套装3册) 中医医案诊疗思路和处方药应用 》

售價:NT$ 614.0
无法忍受谎言的人:一个调查记者的三十年
《 无法忍受谎言的人:一个调查记者的三十年 》

售價:NT$ 290.0

建議一齊購買:

+

NT$ 801
《 CMOS集成电路设计手册(第3版·模拟电路篇) 》
+

NT$ 621
《 CMOS集成电路设计手册(第3版·基础篇) 》
+

NT$ 428
《 集成电路版图设计教程 》
+

NT$ 618
《 模拟电路版图的艺术(第二版) 》
編輯推薦:
《集成电路版图设计》从半导体器件理论基础入手,在讲授集成电路制造工艺的基础上,循序渐进地介绍了集成电路版图设计的基本原理与方法。本书的一个突出特点是:全书在讲解版图设计的过程中,尽量减少复杂的理论讲解,并将理论讲解和工艺实践经验相结合,使读者能够明白版图设计是科学和经验两者的有机结合。本书在一些重要章节的最后小节中都增加了设计规则或相关设计经验的介绍,无论是对新手还是对有经验的设计者来说都非常有帮助。而且书中的实例都是作者多年实践的结果,极具指导性。本书由陆学斌主编。
內容簡介:
《集成电路版图设计》主要介绍集成电路版图设计,主要内容包括半导体器件和集成电路工艺的基本知识,集成电路常用器件的版图设计方法,流行版图设计软件的使用方法,版图验证的流程,以及集成电路版图实例等。
《集成电路版图设计》适合作为高等学校微电子技术专业和集成电路设计专业版图设计课程的教材,也可作为集成电路版图设计者的参考书。
本书由陆学斌主编。
目錄
第1章 半导体器件理论基础
1.1 半导体的电学特性
1.1.1 品格结构与能带
1.1.2 电子与空穴
1.1.3 半导体中的杂质
1.1.4 半导体的导电性
1.2 PN结的结构与特性
1.2.1 PN结的结构
1.2.2 PN结的电压电流特性
1.2.3 PN结的电容
1.3 MOS场效应晶体管
1.3.1 MOS场效应晶体管的结构与工作原理
1.3.2 MOS管的电流电压特性
1.3.3 MOS管的电容
1.4 双极型晶体管
1.4.1 双极型晶体管的结构与工作原理
1.4.2 双极型晶体管的电流传输
1.4.3 双极型晶体管的基本性能参数
本章小结
第2章 集成电路制造工艺
2.1 硅片制备
2.1.1 单晶硅制备
2.1.2 硅片的分类
2.2 外延工艺
2.2.1 概述
2.2.2 外延工艺的分类与用途
2.3 氧化工艺
2.3.1 二氧化硅薄膜概述
2.3.2 硅的热氧化
2.4 掺杂工艺
2.4.1 扩散
2.4.2 离子注入
2.5 薄膜制备工艺
2.5.1 化学气相淀积
2.5.2 物理气相淀积
2.6 光刻技术
2.6.1 光刻工艺流程
2.6.2 光刻胶
2.7 刻蚀工艺
2.8 CMOS集成电路基本工艺流程
本章小结
第3章 操作系统与Cadence软件
3.1 UNIX操作系统
3.1.1 UNIX操作系统简介
3.1.2 UNIX常用操作
3.1.3 UNIX文件系统
3.1.4 UNIX文件系统常用工具
3.2 Linux操作系统
3.3 虚拟机
3.4 Cadence软件
3.4.1 Cadence软件概述
3.4.2 电路图的建立
3.4.3 版图设计规则
3.4.4 版图编辑大师
3.4.5 版图的建立与编辑
3.4.6 版图验证
3.4.7 Dracula DRC
3.4.8 Dracula LVS
本章小结
第4章 电阻
4.1 概述
4.2 电阻率和方块电阻
4.3 电阻的分类与版图
4.3.1 多晶硅电阻
4.3.2 阱电阻
4.3.3 有源区电阻
4.3.4 金属电阻
4.4 电阻设计依据
4.4.1 电阻变化
4.4.2 实际电阻分析
4.4.3 电阻设计依据
4.5 电阻匹配规则
本章小结
第5章 电容和电感
5.1 电容
5.1.1 概述
5.1.2 电容的分类
5.1.3 电容的寄生效应
5.1.4 电容匹配规则
5.2 电感
5.2.1 概述
5.2.2 电感的分类
5.2.3 电感的寄生效应
5.2.4 电感设计准则
本章小结
第6章 二极管与外围器件
6.1 二极管
6.1.1 二极管的分类
6.1.2 ESD保护
6.1.3 二极管匹配规则
6.2 外围器件
6.2.1 压焊块PAD
6.2.2 连线
本章小结
第7章 双极型晶体管
7.1 概述
7.2 发射极电流集边效应
7.3 双极型晶体管的分类与版图
7.3.1 标准双极型工艺NPN管
7.3.2 标准双极型工艺衬底PNP管
7.3.3 标准双极型工艺横向PNP管
7.3.4 BiCMOS工艺晶体管
7.4 双极型晶体管版图匹配规则
7.4.1 双极型晶体管版图基本设计规则
7.4.2 纵向晶体管设计规则
7.4.3 横向晶体管设计规则
本章小结
第8章 MOS场效应晶体管
8.1 概述
8.2 MOS管的版图
8.3 MOS晶体管版图设计技巧
8.3.1 源漏共用
8.3.2 特殊尺寸MOS管
8.3.3 衬底连接与阱连接
8.3.4 天线效应
8.4 棍棒图
8.5 MOS管的匹配规则
本章小结
第9章 集成电路版图设计实例
9.1 常用版图设计技巧
9.2 数字版图设计实例
9.2.1 反相器
9.2.2 与非门和或非门
9.2.3 传输门
9.2.4 三态反相器
9.2.5 多路选择器
9.2.6 D触发器
9.2.7 二分频器
9.2.8 一位全加器
9.3 版图设计前注意事项
9.4 版图设计中注意事项
9.5 静电保护电路版图设计实例
9.5.1 输入输出PAD静电保护
9.5.2 限流电阻的画法
9.5.3 电源静电保护
9.5.4 二级保护
9.6 运算放大器版图设计实例
9.6.1 运放组件布局
9.6.2 输入差分对版图设计
9.6.3 偏置电流源版图设计
9.6.4 有源负载管版图设计
9.6.5 运算放大器总体版图
9.7 带隙基准源版图设计实例
9.7.1 寄生PNP双极型晶体管版图设计
9.7.2 对称电阻版图设计
9.7.3 带隙基准源总体版图
9.8 芯片总体设计
9.8.1 噪声考虑
9.8.2 布局
本章小结
参考文献

 

 

書城介紹  | 合作申請 | 索要書目  | 新手入門 | 聯絡方式  | 幫助中心 | 找書說明  | 送貨方式 | 付款方式 台灣用户 | 香港/海外用户
megBook.com.tw
Copyright (C) 2013 - 2024 (香港)大書城有限公司 All Rights Reserved.